9 верасня па мясцовым часе генеральны дырэктар Intel Кісінджэр абвясціў, што ўкладзе 20 мільярдаў долараў у будаўніцтва новай буйнамаштабнай фабрыкі пласцін у Агаё, ЗША.Гэта частка стратэгіі Intel IDM 2.0.Увесь інвестыцыйны план складае 100 мільярдаў долараў.Чакаецца, што серыйная вытворчасць на новай фабрыцы пачнецца ў 2025 годзе. У гэты час працэс «1,8 нм» верне Intel на пазіцыю лідэра ў вытворчасці паўправаднікоў.
Стаўшы генеральным дырэктарам Intel у лютым мінулага года, Кісінджэр энергічна садзейнічаў будаўніцтву заводаў у Злучаных Штатах і па ўсім свеце, з якіх не менш за 40 мільярдаў долараў было ўкладзена ў ЗША.У мінулым годзе ён інвеставаў 20 мільярдаў долараў у Арызону для будаўніцтва вафельнай фабрыкі.На гэты раз ён таксама інвеставаў 20 мільярдаў долараў ЗША ў Агаё, а таксама пабудаваў новы завод па ўшчыльненні і выпрабаваннях у Нью-Мексіка.
Intel інвесціруе яшчэ 20 мільярдаў долараў у будаўніцтва двух заводаў чыпаў.Вяртаецца кароль тэхналогіі «1,8 нм».
Фабрыка Intel таксама з'яўляецца буйной фабрыкай паўправадніковых чыпаў, нядаўна пабудаванай у Злучаных Штатах пасля прыняцця законапраекта аб субсідыях чыпаў у памеры 52,8 мільярда долараў ЗША.Па гэтай прычыне прэзідэнт ЗША таксама прысутнічаў на цырымоніі адкрыцця, а таксама губернатар штата Агаё і іншыя высокапастаўленыя чыноўнікі мясцовых дэпартаментаў.
Intel інвесціруе яшчэ 20 мільярдаў долараў у будаўніцтва двух заводаў чыпаў.Вяртаецца кароль тэхналогіі «1,8 нм».
Вытворчая база чыпаў Intel будзе складацца з дзвюх фабрык пласцін, якія могуць змясціць да васьмі фабрык і падтрымліваць сістэмы экалагічнай падтрымкі.Ён займае плошчу каля 1000 акраў, гэта значыць 4 квадратных кіламетры.Гэта створыць 3000 высокааплатных працоўных месцаў, 7000 працоўных месцаў у будаўніцтве і дзясяткі тысяч працоўных месцаў у супрацоўніцтве паставак.
Чакаецца, што гэтыя дзве фабрыкі пачнуць масавую вытворчасць пласцін у 2025 годзе. Intel канкрэтна не назвала ўзровень тэхналагічнага працэсу завода, але раней Intel заявіла, што асвоіць працэс працэсара 5-га пакалення на працягу 4 гадоў і будзе масава вырабляць 20a і працэсы двух пакаленняў 18а ў 2024 г. Такім чынам, да гэтага часу завод таксама павінен вырабляць працэс 18а.
20a і 18a - гэта першыя ў свеце працэсы чыпа, якія дасягнулі ўзроўню EMI, эквівалентнага 2-нм і 1,8-нм працэсам сяброў.Яны таксама выпусцяць дзве чорныя тэхналогіі Intel, істужачны FET і powervia.
Па словах Intel, ribbonfet - гэта рэалізацыя Intel затвора вакол транзістараў.Гэта стане першай зусім новай транзістарнай архітэктурай з таго часу, як кампанія ўпершыню запусціла FinFET у 2011 годзе. Гэтая тэхналогія паскарае хуткасць пераключэння транзістара і дасягае таго ж кіруючага току, што і структура з некалькімі рэбрамі, але займае менш месца.
Powervia - гэта ўнікальная і першая ў галіны сетка зваротнай перадачы электраэнергіі Intel, якая аптымізуе перадачу сігналу, ухіляючы неабходнасць у крыніцы харчавання і
Час публікацыі: 12 верасня 2022 г